真空蒸鍍之工藝對比
作者: 來源: 日期:2020-09-02 11:14:18 人氣:181424
1. 電阻蒸發源蒸鍍發
A. 加熱:高熔點金屬做成適當形狀蒸發源,電流通過直接加熱。
B. 優點:結構簡單、造價便宜、使用可靠
C. 缺點:所能到到的最高溫度有限,加熱器壽命較短
D. 適合:熔點不太高,尤其對膜層質量要求不大高的大批量生產。
2. 電子束蒸發源蒸鍍發
A. 蒸發材料放入冷水鉗鍋中,利用電子束加熱
B. 優點:獲得更大能量密度,使高熔點材料蒸發且速度快,膜的純度較高,熱效率高。
C. 分類:環形槍,直槍,e型槍和空心陰極槍等幾種。
D. 適合:高熔點,純度要求高的材料。