工作原理
應用范圍
產品特點
技術參數表
GSF高精密電子束蒸發光學真空鍍膜機 | |||||||
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜系統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子源 | ||||||
充氣系統 | 壓強控制儀 | ||||||
控制方式 | 半自動或全自動 | ||||||
膜厚監控系統 | 石英晶體膜厚監控系統、光學膜厚監控系統 | ||||||
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |